INDEPENDENT MEDIA NETWORK. TECH. IDEAS. PEOPLE.
A BRIGHTER TOMORROW — TODAY.
🌐|||
GADGETS & HARDWARE

Intel обработала 1 000 000 пластин на сканерах High-NA EUV и внедрила маски 6×12 дюймов

Alex Carter
Alex Carter
Sep 08, 2026•3 min read
Intel обработала 1 000 000 пластин на сканерах High-NA EUV и внедрила маски 6×12 дюймов

Литографический триумф Intel Foundry

🔬 Миллион пластин нового поколения: На фабриках Intel обработано суммарно более 1 000 000 кремниевых пластин на новейших сканерах ASML Twinscan EXE. Это превосходит объемы всех конкурентов вместе взятых.

Главным прорывом стал переход на фотошаблоны размером 6×12 дюймов вместо стандартных 6×6, что устранило необходимость сложного «сшивания» полукадров.

📊 Метрики High-NA EUV в Intel

: 0.55 NA (против 0.33 NA в Low-NA)

: 6 × 12 дюймов (без сшивания)

: Более 1 000 000 единиц

: Intel 18A и Intel 14A